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• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,度逼 But Limited to Research Applications,【代妈托管】 Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

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• 中媒 ：中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

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，「羲之」定位精度可達 0.6 奈米
，難量接近 ASML High-NA EUV 標準。代妈中介中芯國際的 5 奈米量產因此受阻，

為了突破 EUV 技術瓶頸，中國正積極尋找本土化解方。【代妈中介】代育妈妈華為也被限制在 7 奈米製程，生產效率遠低於 EUV 系統 。最快今年第三季展開試產；如今浙江大學又帶來 EBL 新設備。正规代妈机构號稱性能已能媲美國際主流設備 ，

浙江大學余杭量子研究院研發的 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」，

中國受美國出口管制影響 ，【代妈应聘公司】仍有待觀察 。使麒麟晶片性能提升有限 。